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京迈研3522 氧化铜(CuO)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3522 氧化铜(CuO)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

支持靶材定制靶材都是经过真空热压,表面光洁无裂纹

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    北京 通州区 北京市通州区永乐店镇柴厂屯村东(联航大厦)1-886号
产品名称:氧化铜靶材成分:氧化铜产品等级:片状
型号/规格:可定制含量:99.99%是否危险化学品:否
是否进口:否产地:北京型号:3522
执行质量标准:行业标准品牌:京迈研包装:真空包装

京迈研3522 氧化铜(CuO)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料详细介绍

3522  氧化铜(CuO)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

氧化铜(CuO)是一种铜的黑色氧化物,略显两性,稍有吸湿性。相对分子质量79.545,密度为6.3~6.9 g/cm,熔点1326℃。不溶于水和乙醇,溶于酸、氯化铵氰化钾溶液,氨溶液中缓慢溶解,能与强碱反应。氧化铜主要用于制人造丝、陶瓷、釉及搪瓷、电池、石油脱硫剂、杀虫剂,也供制氢、催化剂、绿色玻璃等用。

中文名

氧化铜

      

1326℃

化学式

CuO

      

黑色或棕黑色

分子量

79.545

     度

6.3~6.9 g/cm3

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位***,质量***,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量***材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

 


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